Физика

Химическое состояние и атомная структура поверхности г.ц.к. металлов в реакции взаимодействия с галогенами
Труды ИОФАН; Т. 59

Конов В. И., Ельцов К. Н., ред.

год издания — 2003, кол-во страниц — 185, ISBN — 5-02-032950-9, тираж — 320, язык — русский, тип обложки — мягк., масса книги — 260 гр., издательство — Наука

серия — Труды ИОФАН

цена: 299.00 руб

Р е ц е н з е н т ы:
д-р ф.-м. н. В. П. Быков
д-р ф.-м. н. С. Н. Молотков

Утверждено к печати Институтом общей физики им. А. М. Прохорова РАН

Формат 70х100 1/16. Печать офсетная

В сборнике представлен анализ проблемы и экспериментальное исследование поверхности г.ц.к. металлов при воздействии галогенов в контролируемых условиях сверхвысокого вакуума. Основное внимание уделено изучению атомной структуры несоразмерных хемосорбированных слоёв и тонких плёнок галогенида металла, морфологии поверхности в процессе формирования и разрушения галогенидной плёнки в широком диапазоне температур и покрытий адсорбатом. Обсуждаются вопросы зародышеобразования тонких плёнок и атомной структуры интерфейсов в процессе роста плёнок галогенида металла, а также влияния анизотропии атомного слоя хемосорбированного галогена.

Сборник предназначен для научных сотрудников, инженеров, аспирантов и студентов специализирующихся в области физики/химии поверхности и сверхвысоковакуумного аналитического оборудования.

The analysis of problem and experimental study of fcc metal surfaces under action of molecular halogens in controllable conditions of ultrahigh vacuum is presented in this issue. The main attention is paid to study of atomic structure of incommensurate chemisorbed layers and thin halide films, surface morphology in processes of formation and destruction of metal halides in wide range оf temperatures and coverages. The nucleation sites, atomic structure of interfaces and influence оf atomic anisotropy of chemisorbed halogen layer on process of metal halide growth are also discussed.

The issue is assigned for researchers, engineers, and PhD students specializing in surface science and ultrahigh vacuum analytics.

Предисловие	3

Андрюшечкин Б. В., Ельцов К. Н.
Общие закономерности реакции взаимодействия галогенов с металлами	7

Андрюшечкин Б. В., Ельцов К. Н, Климов А. Н.
Экспериментальная техника, методы и методика работы с галогенами на поверхности металлов	23

Ельцов К. Н., Климов А. Н, Косяков А. Н, Объедков О. В., Шевлюга В. М., Юров В. Ю.
Сверхвысоковакуумный сканирующий туннельный микроскоп GPI-300	45

Андрюшечкин Б. В., Ельцов К. Н., Шевлюга В. М.
Химическое состояние и морфология поверхности Ag(111) в реакции хлорирования	64

Андрюшечкин Б. В., Ельцов К. Н., Шевлюга В. М., Юров В. Ю.
Атомная структура монослоя хемосорбированного хлора на поверхности Ag(111)	84

Андрюшечкин Б. В., Ельцов К. Н., Шевлюга В. М., Барди У., Атрей А.
Локальная структура тонких плёнок AgCl на поверхности серебра	93

Андрюшечкин Б. В., Ельцов К. Н.
Химические и структурные превращения поверхности меди в реакции хлорирования	106

Андрюшечкин Б. В., Ельцов К. Н., Шевлюга В. М.
Формирование монослоя йода и зародышеобразование CuI на поверхности Cu(lll) при адсорбции I₂	134

Андрюшечкин Б. В., Ельцов К. Н., Шевлюга В. М.
Структурные превращения поверхности Cu(100) при воздействии молекулярного йода	157

Книги на ту же тему

Методы анализа поверхностей, Зандерна А. В., ред., 1979
Химическая физика поверхности твёрдого тела, Моррисон С., 1980
Структура и свойства внутренних поверхностей раздела в металлах, Бокштейн Б. С., Копецкий Ч. В., Швиндлерман Л. С., Орлов А. Н., Клингер Л. М., Горбунов Д. А., Иевлев В. М., Мишин Ю. М., Разумовский И. М., Бокштейн С. З., Алешин А. Н., Прокофьев С. И., Страумал Б. Б., Фрадков В. Е., 1988
Тонкие плёнки, их изготовление и измерение, Метфессель С., 1963
Молекулярная теория адсорбции в пористых телах, Товбин Ю. К., 2013

http://knigoprovod.ru

/Наука и Техника/Физика

ОГЛАВЛЕНИЕ

Книги на ту же тему