Предисловие | 5 |
|
Г л а в а 1. Физические основы | 7 |
|
1.1. Способы возбуждения высокочастотных разрядов | 7 |
1.2. Колебания электронов в осциллирующем электрическом поле | 10 |
1.3. Электродинамические характеристики плазмы и взаимодействие |
плазмы высокочастотных разрядов с осциллирующими полями | 14 |
1.4. Рождение и гибель электронов; поддержание плазмы | 24 |
1.5. Простейшая модель высокочастотного ёмкостного разряда | 30 |
1.6. Постоянный положительный потенциал плазмы | 37 |
1.7. Стохастический нагрев электронов | 40 |
1.8. Две формы существования высокочастотного ёмкостного разряда | 46 |
|
Г л а в а 2. Высокочастотные ёмкостные разряды среднего давления | 54 |
|
2.1. Приэлектродные слои пространственного разряда | 54 |
2.2. Экспериментальные вольт-амперные характеристики | 65 |
2.3. Вольт-амперные характеристики и нормальные плотности тока в |
α-разряде (теория и численное моделирование) | 69 |
2.4. Параметры α—γ-перехода | 83 |
2.5. γ-разряд | 89 |
2.6. Почему при средних давлениях α—γ-переход совершается |
скачком, а при низких — без видимого изменения параметров? | 103 |
2.7. Сосуществование двух форм ВЧЕ разряда в промежутке между |
двумя электродами | 105 |
2.8. Высокочастотные ёмкостные разряды высокого давления | 108 |
2.9. Высокочастотные разряды с изолированными электродами | 112 |
|
Г л а в а 3. Высокочастотные ёмкостные разряды низкого давления и |
эффекты асимметрии | 123 |
|
3.1. Самосмещение в асимметричном разряде с блокировочной |
ёмкостью | 123 |
3.2. Причинные связи, определяющие параметры слоёв и плазмы в |
высокочастотном ёмкостном разряде, контролируемом |
амбиполярной диффузией | 132 |
3.3. Динамика приэлектродных слоёв и ангармоничность тока в |
асимметричном разряде | 141 |
3.4. Причины и характер ангармоничности тока в асимметричном и |
симметричном разрядах | 146 |
3.5. Батарейный эффект в асимметричном разряде | 149 |
3.6. Условия «непрозрачности» плазмы для высокочастотного поля, |
быстрой реакции электронов на его изменения и «отсутствия» |
колебаний ионов в слоях | 155 |
3.7. Плавающий потенциал | 158 |
3.8. Приэлектродный слой | 161 |
3.9. Энергетический спектр ионов, бомбардирующих поверхность |
электрода | 175 |
3.10. Высокочастотные разряды в электроотрицательных газах | 180 |
3.11. α—γ-переход без скачка плотности тока и γ-разряд | 187 |
3.12. Некоторые вопросы, касающиеся стохастического нагрева |
электронов | 195 |
3.13. Численное моделирование высокочастотных разрядов низкого |
давления | 199 |
3.14. Магнетронный высокочастотный разряд | 204 |
|
Г л а в а 4. Некоторые вопросы методики измерений и техники |
эксперимента | 209 |
|
4.1. Измерения напряжений на электродах, плазме, слоях и |
соответствующие ВАХ | 210 |
4.2. Зондовые измерения постоянного потенциала пространства и |
плазмы в высокочастотном разряде | 212 |
4.3. Активное зондирование высокочастотного разряда постоянным |
электрическим током | 221 |
4.4. Метод изучения поперечной структуры разряда | 230 |
4.5. Оптические методы изучения пространственной структуры |
высокочастотного разряда | 233 |
4.6. Лазерно-индуцированная флуоресценция и лазерная |
оптогальваническая спектроскопия | 235 |
4.7. Получение на опыте и управление высокочастотным разрядом | 237 |
|
Г л а в а 5. Использование высокочастотных ёмкостных разрядов для |
возбуждения газовых лазеров и в плазменной технологии | 248 |
|
5.1. ВЧ разряд и газовые лазеры. Историческое введение | 248 |
5.2. Причины, побуждающие обращаться к высокочастотному разряду |
при создании лазеров | 251 |
5.3. Влияние частоты на характеристики высокочастотного разряда и |
параметры активной лазерной среды | 258 |
5.4. Принципы выбора параметров и конструкции CO2-лазеров с |
диффузионным охлаждением, возбуждаемых поперечным |
высокочастотным разрядом | 264 |
5.5. Оптические резонаторы волноводных и щелевых CO2-лазеров с |
высокочастотным возбуждением | 275 |
5.6. Быстропроточные CO2-лазеры, возбуждаемые ВЧ разрядом и |
комбинированным ВЧ разрядом с участием постоянного тока | 279 |
5.7. Лазеры с активными средами, отличными от CO2 | 287 |
5.8. Магнитная стабилизация разряда в щелевых системах | 290 |
5.9. Плазмохимическая технология | 292 |
|
Список литературы | 299 |