|
Конструкторско-технологические основы проектирования полосковых микросхем Научное издание |
Бушминский И. П., Гудков А. Г., Дергачев В. Ф., Кузьмин А. П., Усачев В. П. |
год издания — 1987, кол-во страниц — 272, тираж — 5700, язык — русский, тип обложки — твёрд. 7Б, масса книги — 360 гр., издательство — Радио и связь |
|
цена: 499.00 руб | | | | |
|
Сохранность книги — хорошая
Р е ц е н з е н т: проф. А. Л. Фельдштейн
Формат 60x90 1/16. Бумага книжно-журнальная №2. Печать высокая |
ключевые слова — полосков, микросхем, диод, фазовращател, фазостабильн, аттенюатор, транзистор, усилител, микроэлектрон, радиоэлектрон, свч, схемотехн, сапр, гис, полупроводников, резонатор, ответвител |
Книга посвящена проблеме повышения эффективности производства полосковых микросхем. В качестве исходной концепции принято положение, что общей целью проектирования является создание устройства с заданными эксплуатационными параметрами, выпуск которого можно осуществить при минимальных производственных затратах. Приводятся принципы и разработанные на их основе методы, которые позволяют осуществить адаптацию полосковой микросхемы к технологическому процессу или взаимную их адаптацию за счёт обоснованного выбора номиналов параметров топологии и точности её изготовления по критерию минимума технологической себестоимости годного изделия. Ту же цель преследует и введение в топологию элементов, компенсирующих действие дестабилизирующих факторов на электрические параметры полоскового узла.
На базе предлагаемых методов разработаны методики технологической оптимизации параметров конструкций и процессов производства для различных типов линий и узлов на их основе. Рассмотрены симметричная, несимметричная, а также связанные полосковые линии, направленные ответвители и фильтры на их основе. Получены их стохастические модели, на базе которых выполнена технологическая оптимизация и оценена её эффективность. Рассмотрена технологическая оптимизация микрополосковых диодных устройств — смесителей и детекторов, выключателей и переключателей, дискретных фазовращателей и фазостабильных аттенюаторов. Во всех случаях технологическая оптимизация дала положительные результаты. Рассмотрены транзисторные усилители. Их технологическая оптимизация также явилась результативной и обеспечила рост вероятности выхода годных изделий.
В книге приведены алгоритмы, графики и таблицы, позволяющие проектировать полосковые микросхемы по стоимостному критерию.
Для научных работников, занимающихся конструкторско-технологическим проектированием гибридных интегральных схем СВЧ.
Табл. 16. Ил. 204. Библиогр. 90 назв.
Внедрение микроэлектроники определило качественно новый этап развития радиоэлектроники вообще и техники СВЧ в частности. В его начальный период внимание специалистов было сосредоточено на построении теоретических основ, разработке инженерных методик анализа и синтеза микрополосковых устройств, создании технологической базы для их изготовления. Несомненные успехи, достигнутые в этой области, в большой степени обеспечены применением машинных методов проектирования и использованием мини- и микроЭВМ в технологическом оборудовании.
Созданные научная и производственная базы явились основой и предпосылкой для разработки устройств большой функциональной сложности, включающих сотни, а иногда и тысячи модулей СВЧ. С ростом функциональной сложности существенно возросли требования к точности электрических параметров СВЧ-микросхем, их воспроизводимости в условиях серийного производства.
Это, в свою очередь, закономерно поставило новую проблему — разработку путей и методов создания микроэлектронных устройств СВЧ, выпуск которых мог бы быть осуществлён при минимальных производственных затратах. Данная проблема характерна для современного этапа развития микроэлектроники СВЧ и требует своего незамедлительного решения.
Практика показала, что пути её решения следует искать в комплексном рассмотрении схемотехнических, конструкторских и технологических вопросов. Это требует создания своей научной базы и определения путей реализации комплексного рассмотрения.
Данная книга является первой в отечественной и зарубежной литературе, где систематически излагаются принципы и методы комплексного проектирования микроэлектронных устройств СВЧ по критерию минимальных производственных затрат, а также рассмотрены конкретные приложения к типовым устройствам.
Авторы предлагают ввести в сложившуюся систему проектирования дополнительную подсистему, которая бы всесторонне учитывала связь между технологическим, конструкторским и схемотехническим проектированием. Изложение построено на широком фактическом материале, приводимые результаты иллюстрируют высокую эффективность комплексного проектирования, а методики могут быть использованы при создании комплексных САПР ГИС СВЧ.
ПРЕДИСЛОВИЕ Член-корреспондент АН СССР Л. Д. Бахрах
|
ОГЛАВЛЕНИЕПредисловие | 3 | Введение | 4 | | Г л а в а 1. Технологическая оптимизация элементов и узлов ГИС СВЧ | 9 | | 1.1. Постановка задачи технологической оптимизации | 9 | 1.2. Первый принцип технологической оптимизации | 13 | 1.3. Второй принцип технологической оптимизации | 24 | 1.4. Третий принцип технологической оптимизации | 32 | 1.5. Конструкционные параметры полосковых элементов и узлов | 38 | | Г л а в а 2. Анализ и технологическая оптимизация параметров МПЛ и лолосковых линий передачи | 52 | | 2.1. Погрешности геометрических размеров | 52 | 5.1.1. Регулярные погрешности геометрических размеров (52). 2.1.2. Дефекты края полоскового проводника (66). 2.1.3. Непрямоугольность поперечного сечения полоскового проводника (68) | 2.2. Влияние разброса электрических и магнитных параметров подложек на электрические параметры МПЛ и полосковых линий | 72 | 2.2.1. Регулярные погрешности параметров материала диэлектрической подложки (72). 2.2.2. Регулярные погрешности ε и μ материала подложки (78). 2.2.3. Нерегулярные погрешности ε и μ (84) | 2.3. Совместное влияние конструкционно-технологических погрешностей | 86 | 2.4. Технологическая оптимизация МПЛ | 92 | 2.4.1. Введение компенсирующих элементов (92). 2.4.2. Выбор оптимальных номиналов конструкционных параметров и точности технологического процесса (97) | | Г л а в а 3. Анализ « технологическая оптимизация связанных МПЛ и узлов на их основе | 107 | | 3.1. Общая характеристика связанных МПЛ | 107 | 3.2. Общая характеристика и классификация узлов СВЧ на связанных МПЛ | 110 | 3.3. Анализ и технологическая оптимизация связанных МПЛ | 114 | 3.3.1. Введение компенсирующего элемента (114). 3.3.2. Оптимизация номиналов волновых сопротивлений СМПЛ (117) | 3.4. Анализ и технологическая оптимизация полосно-пропускающих фильтров на связанных МПЛ | 125 | 3.4.1. Анализ влияния конструкционно-технологических погрешностей (125). 3.4.2. Способы выполнения технологической оптимизации номинальных конструкционных параметров ППФ (132) | 3.5. Анализ и технологическая оптимизация направленных ответвителей на связанных МПЛ | 145 | | Г л а в а 4. Анализ и технологическая оптимизация микрополосковых диодных устройств СВЧ | 154 | | 4.1. Полупроводниковые диоды ГИС СВЧ | 155 | 4.1.1. Конструкции и параметры смесительных и детекторных диодов (155). 4.1.2. Конструкции и параметры переключательных диодов (161). 4.1.3. Интегральный элемент (165) | 4.2. Анализ и технологическая оптимизация микрополосковых смесительных и детекторных устройств | 165 | 4.2.1. Особенности устройств на МПЛ и диодных камер (165). 4.2.2. Связь предельных параметров эквивалентной схемы диодов и условий согласования (168). 4.2.3. Статистические характеристики интегральных элементов (172). 4.2.4. Технологическая оптимизация детекторных и смесительных устройств (174) | 4.3. Анализ и технологическая оптимизация выключателей и переключателей | 177 | 4.3.1. Основные параметры (177). 4.3.2. Технологическая оптимизация выключателя (179). 4.3.3. Технологическая оптимизация переключателя (185) | 4.4. Анализ и технологическая оптимизация дискретных фазовращателей | 187 | 4.4.1. Краткая характеристика фазовращателей (187). 4.4.2. Основные параметры фазовращателей (189). 4.4.3. Анализ влияния погрешностей изготовления на параметры фазовращателя (190). 4.4.4. Технологическая оптимизация фазовращателей (195) | 4.5. Анализ и технологическая оптимизация дискретных фазостабильных аттенюаторов | 201 | 4.5.1. Краткая характеристика фазостабильных аттенюаторов (201). 4.5.2. Основные параметры (202). 4.5.3. Расчёт параметров фазостабильных аттенюаторов (203) | | Г л а в а 5. Технологическая оптимизация линейного транзисторного усилителя | 218 | | 5.1. Общий подход к технологической оптимизации линейных транзисторных усилителей | 219 | 5.2. Анализ вероятностных характеристик пассивных согласующих цепей | 227 | 5.3. Связь между оптимальностью транзисторного усилителя и оптимальностью его составных частей | 240 | | Г л а в а 6. Технологическая оптимизация полосковых элементов и узлов ГИС СВЧ на основе отрезков МПЛ | 242 | | 6.1. Микрополосковый резонатор | 243 | 6.2. Микрополосковый резистор | 250 | 6.3. Микрополосковый шлейфовый направленный ответвитель | 256 | | Заключение | 260 | Список литературы | 263 | Предметный указатель | 267 |
|
Книги на ту же тему- Моделирование и оптимизация на ЭВМ радиоэлектронных устройств, Бененсон З. М., Елистратов М. Р., Ильин Л. К., Кравченко С. В., Сухов Д. М., Удлер М. А., 1981
- Алгоритмы анализа электронных схем. — 2-е изд., перераб. и доп., Сигорский В. П., Петренко А. И., 1976
- Схемотехническое проектирование и моделирование радиоэлектронных устройств (без CD), Антипенский Р. В., Фадин А. Г., 2007
- Методы машинного расчёта электронных схем, Калахан Д., 1970
- Машинные методы анализа и проектирования электронных схем, Влах И., Сингхал К., 1988
- Цифровые интегральные микросхемы в информационно-измерительной аппаратуре, Зельдин Е. А., 1986
- Печатные схемы: Их конструирование и применение, Дьюкс Д. М., 1963
- Структурное моделирование в CALS-технологиях, Павлов В. В., 2006
- Обслуживание микропроцессорных систем, Фергусон Д., Макари Л., Уилльямз П., 1989
- Технология полупроводникового и электровакуумного машиностроения. Уч. пособие для студентов вузов, Кондратьев А. Б., 1969
|
|
|