ОСНОВНЫЕ ОБОЗНАЧЕНИЯ И СОКРАЩЕНИЯ | 6 |
|
ПРЕДИСЛОВИЕ | 7 |
|
Г л а в а 1. СОЗДАНИЕ РАДИАЦИОННЫХ ДЕФЕКТОВ В ТВЁРДЫХ ТЕЛАХ | 11 |
|
§ 1.1. Ударные механизмы создания радиационных дефектов в |
кристаллах | 11 |
§ 1.2. Создание радиационных дефектов при распаде электронных |
возбуждений | 13 |
§ 1.3. Возможные механизмы дефектообразования при распаде |
электронных возбуждений | 15 |
|
Г л а в а 2. ЩЁЛОЧНО-ГАЛОИДНЫЕ КРИСТАЛЛЫ | 19 |
|
§ 2.1. Общие замечания | 19 |
§ 2.2. Структура идеальных кристаллов | 20 |
§ 2.3. Элементарные возбуждения кристаллов AIBVII | 23 |
§ 2.4. Примесные ионы в ЩГК | 25 |
§ 2.5. Методы выращивания ЩГК | 27 |
|
Г л а в а 3. ИОННЫЕ ВОЗБУЖДЕНИЯ ЩГК | 31 |
|
§ 3.1. Колебательные спектры. Фононы | 31 |
§ 3.2. Дефекты Френкеля и Шоттки | 33 |
§ 3.3. Анионные френкелевские дефекты | 36 |
§ 3.4. Катионные френкелевские дефекты | 41 |
|
Г л а в а 4. ЭЛЕКТРОННЫЕ ВОЗБУЖДЕНИЯ ЩГК | 44 |
|
§ 4.1. Экспериментальное исследование электронных возбуждений в |
кристаллах | 44 |
§ 4.2. Собственные электронные возбуждения в ЩГК | 48 |
§ 4.3. Зонная структура ЩГК | 56 |
§ 4.4. Размножение электронных возбуждений в ЩГК | 60 |
§ 4.5. Рентгеновские возбуждения. Катионные экситоны | 67 |
|
Г л а в а 5. СВОБОДНЫЕ И АВТОЛОКАЛИЗОВАННЫЕ ЭЛЕКТРОННЫЕ ВОЗБУЖДЕНИЯ | 69 |
|
§ 5.1. Автолокализация электронных возбуждений в твёрдых телах | 69 |
§ 5.2. Автолокализованные дырки в ЩГК | 71 |
§ 5.3. Движение автолокализованных и горячих дырок | 74 |
§ 5.4. Автолокализованные экситоны | 77 |
§ 5.5. Свободные экситоны в ЩГК | 86 |
§ 5.6. Сосуществование свободных и автолокализованных экситонов |
в ЩГК | 95 |
|
Г л а в а 6. РАДИАЦИОННОЕ СОЗДАНИЕ СТАБИЛЬНЫХ ДЕФЕКТОВ В ЩГК | 101 |
|
§ 6.1. Создание дефектов рентгеновской радиацией и электронами | 101 |
§ 6.2. Создание дефектов ВУФ радиацией | 105 |
§ 6.3. Низкотемпературное создание френкелевских дефектов ВУФ |
радиацией | 110 |
§ 6.4. Пространственная топография радиационного |
дефектообразования | 114 |
|
Г л а в а 7. НИЗКОТЕМПЕРАТУРНАЯ ТЕРМОАКТИВАЦИОННАЯ СПЕКТРОСКОПИЯ ДЕФЕКТОВ В ЩГК | 116 |
|
§ 7.1. Термоактивационная спектроскопия облученных кристаллов | 116 |
§ 7.2. Термоактивационная спектроскопия радиационных дефектов |
в ЩГК | 124 |
§ 7.3. Излучательные и безызлучательные рекомбинации дефектов | 131 |
§ 7.4. Распределение френкелевских пар по междефектным расстояниям | 135 |
|
Г л а в а 8. КОРОТКОЖИВУЩИЕ ДЕФЕКТЫ | 139 |
|
§ 8.1. Создание дефектов импульсными электронными пучками | 139 |
§ 8.2. Создание дефектов пикосекундными лазерными импульсами | 141 |
§ 8.3. Создание дефектов методом каскадного возбуждения | 142 |
|
Г л а в а 9. ЭКСИТОННЫЕ МЕХАНИЗМЫ СОЗДАНИЯ F, H-ПАР | 147 |
|
§ 9.1. Основные модели создания F, H-пар | 147 |
§ 9.2. Вибронный механизм распада экситонов | 150 |
§ 9.3. Диссоциативные механизмы | 157 |
§ 9.4. Релаксационный механизм | 161 |
§ 9.5. Экситонно-примесные механизмы | 161 |
|
Г л а в а 10. ПЕРЕЗАРЯДКА ФРЕНКЕЛЕВСКИХ ПАР | 164 |
|
§ 10.1. Возможные механизмы создания α, I-пар | 164 |
§ 10.2. Туннельная перезарядка френкелевских пар | 165 |
§ 10.3. Создание α, I-пар с участием вторичных e-, e+, eo | 168 |
§ 10.4. Низкотемпературное движение горячих междоузельных ионов | 172 |
|
Г л а в а 11. ОБРАЗОВАНИЕ ДЕФЕКТОВ ПРИ РЕКОМБИНАЦИИ ЭЛЕКТРОНОВ И ДЫРОК | 174 |
|
§ 11.1. Образование дефектов при фотостимулированной рекомбинации |
электронов с автолокализованными дырками | 174 |
§ 11.2. Обнаружение рекомбинационного создания F, H-пар методом ЭПР | 175 |
§ 11.3. Особенности рекомбинационного механизма | 177 |
§ 11.4. Температурная зависимость радиационного создания дефектов | 178 |
|
Г л а в а 12. ДВА КАНАЛА БЕЗЫЗЛУЧАТЕЛЬНОГО РАСПАДА ЭЛЕКТРОННЫХ ВОЗБУЖДЕНИЙ В КРИСТАЛЛАХ | 180 |
|
§ 12.1. Излучательный распад электронных возбуждений | 180 |
§ 12.2. Безызлучательный распад электронных возбуждений с |
тепловыделением | 133 |
§ 12.3. Безызлучательный распад электронных возбуждений с рождением |
дефектов | 187 |
§ 12.4. Роль локальных колебаний при распаде электронных возбуждений |
с рождением дефектов | 189 |
§ 12.5. Ориентационные эффекты при радиационном создании дефектов | 192 |
|
Г л а в а 13. РАДИАЦИОННОЕ СОЗДАНИЕ КАТИОННЫХ ДЕФЕКТОВ | 196 |
|
§ 13.1. Радиационное создание катионных френкелевских дефектов | 196 |
§ 13.2. Радиационное создание катионных вакансий и ионная проводимость | 198 |
§ 13.3. Радиационное создание VF-центров | 199 |
§ 13.4. Поиск междоузельных катионов | 200 |
§ 13.5. Трёхгалоидные центры окраски в ЩГК | 201 |
§ 13.6. Механизмы создания катионных дефектов в ЩГК | 205 |
|
Г л а в а 14. АССОЦИАЦИЯ ДЕФЕКТОВ И РАДИОЛИЗ | 209 |
|
§ 14.1. Ассоциация H-центров. Дислокационные петли | 209 |
§ 14.2. Ассоциация F-центров. Образование коллоидального металла | 213 |
§ 14.3. Радиолиз и разрушение ЩГК с участием катионных и анионных |
дефектов | 216 |
|
Г л а в а 15. СОЗДАНИЕ ДЕФЕКТОВ С УЧАСТИЕМ ДОРАДИАЦИОННЫХ НАРУШЕНИЙ | 218 |
|
§ 15.1. Радиационное дефектообразование с участием примесных |
диполей M2+vc- | 218 |
§ 15.2. Создание центров окраски с участием примесных ионов M+ | 220 |
§ 15.3. Радиационное создание активных центров для перестраиваемых |
лазеров | 223 |
|
Г л а в а 16. РАДИАЦИОННОЕ СОЗДАНИЕ ДЕФЕКТОВ В ТВЁРДЫХ ТЕЛАХ РАЗНЫХ КЛАССОВ | 226 |
|
§ 16.1. Критерии радиационной неустойчивости широкощелевых |
диэлектриков | 226 |
§ 16.2. Особенности электронных возбуждений в твёрдых телах разных |
классов | 228 |
§ 16.3. Создание дефектов при больших мощностях облучения | 233 |
§ 16.4. Распад электронных возбуждений с созданием и преобразованием |
дефектов в полупроводниках | 233 |
|
Г л а в а 17. ПРИМЕНЕНИЕ РАСПАДА ЭЛЕКТРОННЫХ ВОЗБУЖДЕНИЙ С РОЖДЕНИЕМ ДЕФЕКТОВ В ЗАПОМИНАЮЩИХ СРЕДАХ | 236 |
|
§ 17.1. Радиационно-чувствительные запоминающие среды | 236 |
§ 17.2. Запоминающие среды на основе галоидосодержащих |
алюмосиликатов | 237 |
§ 17.3. Сверхлинейные по мощности возбуждения эффекты памяти | 239 |
|
ЗАКЛЮЧЕНИЕ | 242 |
|
СПИСОК ЛИТЕРАТУРЫ | 246 |