t.me/knigoprovod Отправить другу/подруге по почте ссылку на эту страницуВариант этой страницы для печатиНапишите нам!Карта сайта!Помощь. Как совершить покупку…
московское время07.07.20 16:23:33
На обложку
Коулун Тонгавторы — Теру П.
«Матрица» как философия: Эссе«Матрица» как философия: Эссе
Геотермический метод исследования толщ мёрзлых породавторы — Редозубов Д. В.
б у к и н и с т и ч е с к и й   с а й т
Новинки«Лучшие»Доставка и ОплатаМой КнигоПроводО сайте
Книжная Труба   поиск по словам из названия
В ЛЕТНЕЕ ВРЕМЯ ВОЗМОЖНЫ И НЕМИНУЕМЫ ЗАДЕРЖКИ ПРИ ОБРАБОТКЕ ЗАКАЗОВ
Авторский каталог
Каталог издательств
Каталог серий
Моя Корзина
Только цены
Рыбалка
Наука и Техника
Математика
Физика
Радиоэлектроника. Электротехника
Инженерное дело
Химия
Геология
Экология
Биология
Зоология
Ботаника
Медицина
Промышленность
Металлургия
Горное дело
Сельское хозяйство
Транспорт
Архитектура. Строительство
Военная мысль
История
Персоны
Археология
Археография
Восток
Политика
Геополитика
Экономика
Реклама. Маркетинг
Философия
Религия
Социология
Психология. Педагогика
Законодательство. Право
Филология. Словари
Этнология
ИТ-книги
O'REILLY
Дизайнеру
Дом, семья, быт
Детям!
Здоровье
Искусство. Культурология
Синематограф
Альбомы
Литературоведение
Театр
Музыка
КнигоВедение
Литературные памятники
Современные тексты
Худ. литература
NoN Fiction
Природа
Путешествия
Эзотерика
Пурга
Спорт

/Наука и Техника/Физика

Физика СВЧ вакуумно-плазменных нанотехнологий — Яфаров Р. К.
Физика СВЧ вакуумно-плазменных нанотехнологий
Яфаров Р. К.
год издания — 2009, кол-во страниц — 216, ISBN — 978-5-9221-1150-8, тираж — 300, язык — русский, тип обложки — твёрд. 7Б, масса книги — 320 гр., издательство — Физматлит
цена: 299.00 рубПоложить эту книгу в корзину
Издание осуществлено при поддержке РФФИ по проекту 08-07-07007

Формат 60x90 1/16. Бумага офсетная №1. Печать офсетная
ключевые слова — свч, вакуумно-плазмен, нанотех, плазмохим, диффузион, плазм, разряд, стохастическ, фоккера-планк, микроволн, волновод, низкотемпературн, ионизац, эцр, травлен, низкоразмер, гетероструктур, наноструктур, нанокомпозит, нанокристаллит, наноалмаз

В книге обозначены и насколько возможно полно раскрыты современные тенденции и подходы в разработке СВЧ плазмохимического оборудования и нанотехнологий на его основе. Излагаются математическая теория диффузионных процессов и основы теории плазмы газового разряда в магнитном поле, описаны применяемые методы решения стохастических дифференциальных уравнений и уравнений Фоккера-Планка-Колмогорова. Даны обобщение и системное изложение опыта и результатов по разработке физико-технических основ новых типов микроволновых плазменных устройств. Приведены результаты практического использования разработанных микроволновых источников плазмы.

Материалы книги могут быть задействованы в учебном процессе в качестве спецкурсов или спецсеминаров для студентов вузов соответствующего профиля.

ОГЛАВЛЕНИЕ

Введение5
 
Г л а в а  1.  Физико-технические основы создания СВЧ плазменных
устройств с электронным циклотронным резонансом11
 
§ 1.1. Распространение СВЧ-колебаний в плазменных волноводных
устройствах11
§ 1.2. Согласование элементов волноводного тракта14
§ 1.3. Одномодовые СВЧ плазменные устройства20
§ 1.4. Передача СВЧ-энергии и пробой в круглом волноводе-реакторе25
§ 1.5. Многомодовые СВЧ плазменные устройства29
1.5.1. Выбор типа электромагнитных волн (29). 1.5.2. Основные
типы многомодовых СВЧ плазменных устройств (34).
 
Г л а в а  2.  Взаимодействие электромагнитных волн с плазмой во
внешнем магнитном поле41
 
§ 2.1. Общие сведения о свойствах низкотемпературной плазмы41
2.1.1. Плотность, температура и функция распределения (41).
2.1.2. Оболочки и электрические поля (43). 2.1.3. Столкновения
частиц в плазме (44). 2.1.4. Плазменная частота (44).
2.1.5. Влияние магнитного поля (45). 2.1.6. Давление плазмы
(45). 2.1.7. Ионизация (46).
§ 2.2. Поглощение электромагнитных волн при ЭЦР47
§ 2.3. Бесстолкновительное поглощение СВЧ-мощности во внешнем
магнитном поле56
§ 2.4. Распространение электромагнитных волн в волноводах
с продольно намагниченной плазмой60
2.4.1. Однородное магнитное поле (60). 2.4.2. Неоднородное
магнитное поле (62).
§ 2.5. Удержание плазмы в магнитном поле64
 
Г л а в а  3.  Диффузионная модель СВЧ газового разряда и её
применение в технологических процессах71
 
§ 3.1. Равномерность обработки в одномодовых СВЧ-источниках плазмы71
§ 3.2. Влияние геометрии реактора и источника ионизации на параметры
плазменной обработки74
§ 3.3. Равномерность и производительность СВЧ плазменной обработки
в убывающем магнитном поле78
§ 3.4. Диффузия электронов в цилиндрическом плазмотроне с внешним
магнитным полем85
§ 3.5. Диффузионная модель газового СВЧ-разряда в магнитном поле
с ненулевыми граничными условиями91
 
Г л а в а  4.  Характеристики СВЧ-плазмы в магнитном поле98
 
§ 4.1. Методика исследования электронной компоненты СВЧ-плазмы
в магнитном поле98
§ 4.2. Зависимость параметров плазмы от режима генерации103
§ 4.3. Электрические поля в СВЧ-разряде с внешним магнитным полем109
§ 4.4. Эмиссионные характеристики плазмы СВЧ газового разряда113
§ 4.5. Управление параметрами СВЧ ионно-плазменного источника116
 
Г л а в а  5.  Сверхвысокочастотное плазмохимическое травление119
 
§ 5.1. Классификация процессов ионно-плазменного травления119
5.1.1. Универсальность и анизотропность ионно-лучевого травления
(121). 5.1.2. Селективность и анизотропность реактивного
ионно-лучевого травления (123). 5.1.3. Универсальность
ионно-плазменного травления (125). 5.1.4. Селективность и
производительность реактивного ионно-плазменного травления
(125). 5.1.5. Селективность и «мягкость» плазменного травления
(125). 5.1.6. «Мягкость» и изотропность радикального травления
(125). 5.1.7. Производительность и анизотропность
ионно-стимулированного газового травления (126).
§ 5.2. Низкоэнергетичное травление соединений A3B5 в хлорсодержащем
газовом СВЧ-разряде128
§ 5.3. Сверхвысокочастотное ВПТ металлических плёнок135
§ 5.4. Плазмостойкость резистов при СВЧ ВПТ138
 
Г л а в а  6.  Сверхвысокочастотное плазмохимическое травление
кремниевых материалов141
 
§ 6.1. Скорость и селективность СВЧ-травления141
§ 6.2. Качество СВЧ-травления143
§ 6.3. Сверхвысокочастотное травление кремниевых пластин различных
кристаллографических ориентаций146
§ 6.4. Механизм и анизотропность высоковакуумного СВЧ-травления152
§ 6.5. Влияние структуры поверхности на качество травления157
 
Г л а в а  7.  Плазмохимический СВЧ-синтез низкоразмерных
гетероструктур на основе кремния и его соединений162
 
§ 7.1. Современные технологии формирования спонтанно упорядоченных
наноструктур и нанокомпозитов162
7.1.1. Упорядоченные массивы трёхмерных когерентно напряжённых
островков (163). 7.1.2. Эффекты упорядочения (165).
§ 7.2. Размеры и плотность островков: возможности управления165
7.2.1. Формирование массивов вертикально связанных квантовых
точек (166).
§ 7.3. Самоорганизация кремниевых нанокристаллитов в СВЧ-плазме167
§ 7.4. Синтез аморфного гидрогенизированного кремния и его
соединений175
§ 7.5. Конформные плёночные покрытия диоксида кремния181
 
Г л а в а  8.  Плазмохимический СВЧ-синтез низкоразмерных углеродных
структур различных аллотропных модификаций186
 
§ 8.1. Самоорганизация наноалмазных кристаллитов186
§ 8.2. Синтез наноалмазных композиционных материалов193
§ 8.3. Интеграция технологических процессов на основе плазмы СВЧ
газового разряда в магнитном поле199
 
Список литературы205

Книги на ту же тему

  1. Основы электродинамики плазмы: Учебник для физических специальностей университетов. — 2-е изд., перераб. и доп., Александров А. Ф., Богданкевич Л. С., Рухадзе А. А., 1988
  2. Нанотехнологии для микро- и оптоэлектроники. — 2-е изд., доп., Мартинес-Дуарт Д. М., Мартин-Палма Р. Д., Агулло-Руеда Ф., 2009
  3. Основы технологий и применение наноматериалов, Колмаков А. Г., Баринов С. М., Алымов М. И., 2012
  4. Введение в физику плазмы, Смирнов Б. М., 1975
  5. Плазменные ускорители и ионные инжекторы, Козлов Н. П., Морозов А. И., ред., 1984
  6. Введение в физику плазмы, Чен Ф., 1987
  7. Плазменная технология в производстве СБИС, Айнспрук Н., Браун Д., ред., 1987
  8. Плазмохимические реакции и процессы, Полак Л. С., ред., 1977
  9. Физика химически активной плазмы, Русанов В. Д., Фридман А. А., 1984
  10. Химия плазмы. Вып. 1, Смирнов Б. М., ред., 1974
  11. Вакуумно-плазменное и плазменно-растворное модифицирование полимерных материалов, Кутепов A. M., Захаров А. Г., Максимов А. И., 2004
  12. Основы физики процессов в устройствах с низкотемпературной плазмой, Недоспасов А. В., Хаит В. Д., 1991
  13. Низкотемпературная плазма. Т. 18: Высокоэнергетические процессы обработки материалов, Солоненко О. П., Алхимов А. П., Марусин В. В., Оришич A. M., Рахимянов Х. М., Салимов Р. А., Щукин В. Г., Косарев В. Ф., 2000
  14. Химия плазмы. Вып. 11, Смирнов Б. М., ред., 1984
  15. Электроизоляция и разряд в вакууме, Сливков И. Н., 1972
  16. Высокочастотный ёмкостный разряд: Физика. Техника эксперимента. Приложения: Учебное пособие: Для вузов, Райзер Ю. П., Шнейдер М. Н., Яценко Н. А., 1995
  17. Физика и химия газовых разрядов в пучках СВЧ-волн, Коврижных Л. М., ред., 1994
  18. Спектроскопия плазмы с квазимонохроматическими электрическими полями, Окс Е. А., 1990
  19. Элементарные процессы в плазме щелочных металлов, Ключарев А. Н., Янсон М. Л., 1988
  20. Искусственные пучки частиц в космической плазме, Гранналь Б., ред., 1985
  21. Горячие электроны и сильные электромагнитные волны в плазме полупроводников и газового разряда, Басс Ф. Г., Гуревич Ю. Г., 1975
  22. Процессы переноса в пристеночных слоях плазмы, Котельников В. А., Ульданов С. В., Котельников М. В., 2004
  23. Волны в магнитоактивной плазме, Гинзбург В. Л., Рухадзе А. А., 1970
  24. Статистическая теория плазменно-молекулярных систем, Климонтович Ю. Л., Вильхельмссон X., Якименко И. П., Загородний А. Г., 1990
  25. Вопросы теории плазмы. Выпуск 2, Леонтович М. А., ред., 1963
  26. Вопросы теории плазмы. Выпуск 7, Леонтович М. А., ред., 1973
  27. Вопросы теории плазмы. Выпуск 9, Михайловский А. Б., ред., 1979
  28. Вопросы теории плазмы. Выпуск 17, Кадомцев Б. Б., ред., 1989
  29. Вопросы теории плазмы. Выпуск 18, Кадомцев Б. Б., ред., 1990
  30. Вопросы теории плазмы. Выпуск 8, Леонтович М. А., ред., 1974
  31. Итоги науки и техники: Физика плазмы. Том 2, Шафранов В. Д., ред., 1981
  32. Итоги науки и техники: Физика плазмы. Том 3, Шафранов В. Д., ред., 1982
  33. Статистическая теория неравновесных процессов в плазме, Климонтович Ю. Л., 1964
  34. Процессы переноса в реагирующих газах и плазме, Алексеев Б. В., Грушин И. Т., 1994
  35. Взаимодействие сильных электромагнитных полей с плазмой, Геккер И. Р., 1978
  36. Математическое моделирование плазмы. — 2-е изд., перераб. и доп., Днестровский Ю. Н., Костомаров Д. П., 1993
  37. Неустойчивости плазмы в магнитных ловушках, Михайловский А. Б., 1978
  38. Диагностика плотной плазмы, Басов Н. Г., Захаренков Ю. А., Рупасов А. А., Склизков Г. В., Шиканов А. С., 1989
  39. Электродинамика плотных электронных пучков в плазме, Кузелев М. В., Рухадзе А. А., 1990
  40. Эховые явления в плазме и плазмоподобных средах, Павленко В. Н., Ситенко А. Г., 1988
  41. Справочник по волноводам, 1952
  42. Нанотехнологии. — 2-е изд., доп., Пул Ч., Оуэнс Ф., 2005
  43. Нанотехнология в ближайшем десятилетии. Прогноз направления исследований, 2002
  44. Стохастические дифференциальные уравнения. Введение в теорию и приложения, Оксендаль Б., 2003

Напишите нам!© 1913—2013
КнигоПровод.Ru
Рейтинг@Mail.ru btd.kinetix.ru работаем на движке KINETIX :)
elapsed time 0.033 secработаем на движке KINETIX :)