год издания — 2009, кол-во страниц — 216, ISBN — 978-5-9221-1150-8, тираж — 300, язык — русский, тип обложки — твёрд. 7Б, масса книги — 320 гр., издательство — Физматлит

цена: 299.00 руб

Издание осуществлено при поддержке РФФИ по проекту 08-07-07007

Формат 60x90 1/16. Бумага офсетная №1. Печать офсетная

В книге обозначены и насколько возможно полно раскрыты современные тенденции и подходы в разработке СВЧ плазмохимического оборудования и нанотехнологий на его основе. Излагаются математическая теория диффузионных процессов и основы теории плазмы газового разряда в магнитном поле, описаны применяемые методы решения стохастических дифференциальных уравнений и уравнений Фоккера-Планка-Колмогорова. Даны обобщение и системное изложение опыта и результатов по разработке физико-технических основ новых типов микроволновых плазменных устройств. Приведены результаты практического использования разработанных микроволновых источников плазмы.

Материалы книги могут быть задействованы в учебном процессе в качестве спецкурсов или спецсеминаров для студентов вузов соответствующего профиля.

Введение	5

Г л а в а 1. Физико-технические основы создания СВЧ плазменных
устройств с электронным циклотронным резонансом	11

§ 1.1. Распространение СВЧ-колебаний в плазменных волноводных
устройствах	11
§ 1.2. Согласование элементов волноводного тракта	14
§ 1.3. Одномодовые СВЧ плазменные устройства	20
§ 1.4. Передача СВЧ-энергии и пробой в круглом волноводе-реакторе	25
§ 1.5. Многомодовые СВЧ плазменные устройства	29
1.5.1. Выбор типа электромагнитных волн (29). 1.5.2. Основные
типы многомодовых СВЧ плазменных устройств (34).

Г л а в а 2. Взаимодействие электромагнитных волн с плазмой во
внешнем магнитном поле	41

§ 2.1. Общие сведения о свойствах низкотемпературной плазмы	41
2.1.1. Плотность, температура и функция распределения (41).
2.1.2. Оболочки и электрические поля (43). 2.1.3. Столкновения
частиц в плазме (44). 2.1.4. Плазменная частота (44).
2.1.5. Влияние магнитного поля (45). 2.1.6. Давление плазмы
(45). 2.1.7. Ионизация (46).
§ 2.2. Поглощение электромагнитных волн при ЭЦР	47
§ 2.3. Бесстолкновительное поглощение СВЧ-мощности во внешнем
магнитном поле	56
§ 2.4. Распространение электромагнитных волн в волноводах
с продольно намагниченной плазмой	60
2.4.1. Однородное магнитное поле (60). 2.4.2. Неоднородное
магнитное поле (62).
§ 2.5. Удержание плазмы в магнитном поле	64

Г л а в а 3. Диффузионная модель СВЧ газового разряда и её
применение в технологических процессах	71

§ 3.1. Равномерность обработки в одномодовых СВЧ-источниках плазмы	71
§ 3.2. Влияние геометрии реактора и источника ионизации на параметры
плазменной обработки	74
§ 3.3. Равномерность и производительность СВЧ плазменной обработки
в убывающем магнитном поле	78
§ 3.4. Диффузия электронов в цилиндрическом плазмотроне с внешним
магнитным полем	85
§ 3.5. Диффузионная модель газового СВЧ-разряда в магнитном поле
с ненулевыми граничными условиями	91

Г л а в а 4. Характеристики СВЧ-плазмы в магнитном поле	98

§ 4.1. Методика исследования электронной компоненты СВЧ-плазмы
в магнитном поле	98
§ 4.2. Зависимость параметров плазмы от режима генерации	103
§ 4.3. Электрические поля в СВЧ-разряде с внешним магнитным полем	109
§ 4.4. Эмиссионные характеристики плазмы СВЧ газового разряда	113
§ 4.5. Управление параметрами СВЧ ионно-плазменного источника	116

Г л а в а 5. Сверхвысокочастотное плазмохимическое травление	119

§ 5.1. Классификация процессов ионно-плазменного травления	119
5.1.1. Универсальность и анизотропность ионно-лучевого травления
(121). 5.1.2. Селективность и анизотропность реактивного
ионно-лучевого травления (123). 5.1.3. Универсальность
ионно-плазменного травления (125). 5.1.4. Селективность и
производительность реактивного ионно-плазменного травления
(125). 5.1.5. Селективность и «мягкость» плазменного травления
(125). 5.1.6. «Мягкость» и изотропность радикального травления
(125). 5.1.7. Производительность и анизотропность
ионно-стимулированного газового травления (126).
§ 5.2. Низкоэнергетичное травление соединений A3B5 в хлорсодержащем
газовом СВЧ-разряде	128
§ 5.3. Сверхвысокочастотное ВПТ металлических плёнок	135
§ 5.4. Плазмостойкость резистов при СВЧ ВПТ	138

Г л а в а 6. Сверхвысокочастотное плазмохимическое травление
кремниевых материалов	141

§ 6.1. Скорость и селективность СВЧ-травления	141
§ 6.2. Качество СВЧ-травления	143
§ 6.3. Сверхвысокочастотное травление кремниевых пластин различных
кристаллографических ориентаций	146
§ 6.4. Механизм и анизотропность высоковакуумного СВЧ-травления	152
§ 6.5. Влияние структуры поверхности на качество травления	157

Г л а в а 7. Плазмохимический СВЧ-синтез низкоразмерных
гетероструктур на основе кремния и его соединений	162

§ 7.1. Современные технологии формирования спонтанно упорядоченных
наноструктур и нанокомпозитов	162
7.1.1. Упорядоченные массивы трёхмерных когерентно напряжённых
островков (163). 7.1.2. Эффекты упорядочения (165).
§ 7.2. Размеры и плотность островков: возможности управления	165
7.2.1. Формирование массивов вертикально связанных квантовых
точек (166).
§ 7.3. Самоорганизация кремниевых нанокристаллитов в СВЧ-плазме	167
§ 7.4. Синтез аморфного гидрогенизированного кремния и его
соединений	175
§ 7.5. Конформные плёночные покрытия диоксида кремния	181

Г л а в а 8. Плазмохимический СВЧ-синтез низкоразмерных углеродных
структур различных аллотропных модификаций	186

§ 8.1. Самоорганизация наноалмазных кристаллитов	186
§ 8.2. Синтез наноалмазных композиционных материалов	193
§ 8.3. Интеграция технологических процессов на основе плазмы СВЧ
газового разряда в магнитном поле	199

Список литературы	205

Книги на ту же тему

Основы электродинамики плазмы: Учебник для физических специальностей университетов. — 2-е изд., перераб. и доп., Александров А. Ф., Богданкевич Л. С., Рухадзе А. А., 1988
Плазменные ускорители и ионные инжекторы, Козлов Н. П., Морозов А. И., ред., 1984
Введение в физику плазмы, Смирнов Б. М., 1975
Нанотехнологии для микро- и оптоэлектроники. — 2-е изд., доп., Мартинес-Дуарт Д. М., Мартин-Палма Р. Д., Агулло-Руеда Ф., 2009
Основы технологий и применение наноматериалов, Колмаков А. Г., Баринов С. М., Алымов М. И., 2012
Физика химически активной плазмы, Русанов В. Д., Фридман А. А., 1984
Плазмохимические реакции и процессы, Полак Л. С., ред., 1977
Введение в физику плазмы, Чен Ф., 1987
Плазменная технология в производстве СБИС, Айнспрук Н., Браун Д., ред., 1987
Химия плазмы. Вып. 1, Смирнов Б. М., ред., 1974
Основы физики процессов в устройствах с низкотемпературной плазмой, Недоспасов А. В., Хаит В. Д., 1991
Вакуумно-плазменное и плазменно-растворное модифицирование полимерных материалов, Кутепов A. M., Захаров А. Г., Максимов А. И., 2004
Низкотемпературная плазма. Т. 18: Высокоэнергетические процессы обработки материалов, Солоненко О. П., Алхимов А. П., Марусин В. В., Оришич A. M., Рахимянов Х. М., Салимов Р. А., Щукин В. Г., Косарев В. Ф., 2000
Химия плазмы. Вып. 11, Смирнов Б. М., ред., 1984
Высокочастотный ёмкостный разряд: Физика. Техника эксперимента. Приложения: Учебное пособие: Для вузов, Райзер Ю. П., Шнейдер М. Н., Яценко Н. А., 1995
Электроизоляция и разряд в вакууме, Сливков И. Н., 1972
Физика и химия газовых разрядов в пучках СВЧ-волн, Коврижных Л. М., ред., 1994
Спектроскопия плазмы с квазимонохроматическими электрическими полями, Окс Е. А., 1990
Элементарные процессы в плазме щелочных металлов, Ключарев А. Н., Янсон М. Л., 1988
Искусственные пучки частиц в космической плазме, Гранналь Б., ред., 1985
Горячие электроны и сильные электромагнитные волны в плазме полупроводников и газового разряда, Басс Ф. Г., Гуревич Ю. Г., 1975
Процессы переноса в пристеночных слоях плазмы, Котельников В. А., Ульданов С. В., Котельников М. В., 2004
Статистическая теория плазменно-молекулярных систем, Климонтович Ю. Л., Вильхельмссон X., Якименко И. П., Загородний А. Г., 1990
Волны в магнитоактивной плазме, Гинзбург В. Л., Рухадзе А. А., 1970
Вопросы теории плазмы. Выпуск 9, Михайловский А. Б., ред., 1979
Вопросы теории плазмы. Выпуск 2, Леонтович М. А., ред., 1963
Вопросы теории плазмы. Выпуск 8, Леонтович М. А., ред., 1974
Вопросы теории плазмы. Выпуск 18, Кадомцев Б. Б., ред., 1990
Вопросы теории плазмы. Выпуск 17, Кадомцев Б. Б., ред., 1989
Вопросы теории плазмы. Выпуск 7, Леонтович М. А., ред., 1973
Итоги науки и техники: Физика плазмы. Том 3, Шафранов В. Д., ред., 1982
Итоги науки и техники: Физика плазмы. Том 2, Шафранов В. Д., ред., 1981
Статистическая теория неравновесных процессов в плазме, Климонтович Ю. Л., 1964
Процессы переноса в реагирующих газах и плазме, Алексеев Б. В., Грушин И. Т., 1994
Взаимодействие сильных электромагнитных полей с плазмой, Геккер И. Р., 1978
Математическое моделирование плазмы. — 2-е изд., перераб. и доп., Днестровский Ю. Н., Костомаров Д. П., 1993
Неустойчивости плазмы в магнитных ловушках, Михайловский А. Б., 1978
Диагностика плотной плазмы, Басов Н. Г., Захаренков Ю. А., Рупасов А. А., Склизков Г. В., Шиканов А. С., 1989
Эховые явления в плазме и плазмоподобных средах, Павленко В. Н., Ситенко А. Г., 1988
Электродинамика плотных электронных пучков в плазме, Кузелев М. В., Рухадзе А. А., 1990
Справочник по волноводам, 1952
Нанотехнологии. — 2-е изд., доп., Пул Ч., Оуэнс Ф., 2005
Нанотехнологии в микроэлектронике, Агеев О. А., Коноплёв Б. Г., ред., 2019
Нанотехнология в ближайшем десятилетии. Прогноз направления исследований, 2002
Стохастические дифференциальные уравнения. Введение в теорию и приложения, Оксендаль Б., 2003

elapsed time 0.019 sec

/Наука и Техника/Физика

ОГЛАВЛЕНИЕ

Книги на ту же тему